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高温旋转摆振CVD系统

发布时间:2023-06-09  浏览次数:652

设备简介:

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面

反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应

用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围

的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。

为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校

材料实验室、科研院所、环保科学等领域。



  


           

高温旋转摆振cvd系统由以下几部分组成。
▲烧结系统;▲电控系统;▲真空系统;▲旋转系统;▲摆振系统


配置详情

设备特点:

1、低真空、高真空、气氛烧结均可。

2、控制稳定可靠,操作方便,安全防护措施完善。

3、采用先进的PID自学习模糊控制,控温精度高,保持在±1℃。

4、高低温区采用物理隔离,可分别设置工艺曲线。

5、兼具旋转摆振功能,可更好满足客户需求。

6、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗。

7、具有物联网功能(WIFI),可通过手机、电脑远程对设备进行监控,操作。

8、数据存储功能,可保存烧结的重要参数,时长达30天之久(每天开机8小时)。

9、配方功能,可预存配方100条以上。

10、多重防呆功能,让客户使用起来更加安全。

11、联网功能,通过RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件)。

产品型号

NBD-RT1700-120T2DY

供电电源

三相380V 50HZ

额定功率

15KW

测温元件类型

B型热电偶 150mm

低温区最高温度

1400℃

高温区最高温度

1600℃

加热温区尺寸

660×深220×高160mm

炉体尺寸

1200mm×高1260mm(不含点火器)×深760mm

最高真空度

1*10-1Pa

最大摆动角度

-18°

最小摆动角度

4°

炉管最大转速

14r/min

炉体尺寸

2650×深1050×高1450mm

推荐升温速率

5℃/min(刚玉管不宜急冷急热)

设备细节

       

控制系统

 

1. NBD-101PE嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式;

2. 带压力保护控制,

3. 烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;

4. 可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

5. 实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

6. 具有实现远程操控,实时观测设备状态;

7. 温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正;

预留留485接口支持MODBUS协议,客户可远程实现电脑采集烧成温度;

温度精度

±1℃

流程控制画面


重量

600KG

服务支持

1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和O形圈等) 


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